제품소개

반도체 공정용

Polyimide Tape

반도체 SMT 공정
및 Package 공정용

인쇄회로기판 공정 및 반도체 부품실장 공정용

Grade No. Structure Materials Adhesive Heat Resistance Thickness
Base Film Total
HKSI-2525
  • POLYIMIDE
  • Silicone
Polyimide Silicone 250℃ 25㎛ 50㎛
HKSI-2530
  • POLYIMIDE
  • Silicone
Polyimide Silicone 250℃ 25㎛ 55㎛
HKSI-5030
  • POLYIMIDE
  • Silicone
Polyimide Silicone 250℃ 50㎛ 80㎛

오른쪽으로 드래그하시면 보실 수 있습니다.

* 사용자의 요구에 따라 내부 사양 변경 가능함

EMI Shielding Tape

EMI 차폐용

IT, 전자기기 등 전자파 간섭 차폐용

Grade No. Structure Materials Adhesive Maximum Resistance Thickness
Base Film Total
HKC-4030
  • Copper
  • Conductive Acrylic
  • Pet Release(Liner)
Copper Conductive
Acrylic
0.3Ω 40㎛ 45㎛
HKA-5030
  • Aluminium
  • Conductive Acrylic
  • Pet Release(Liner)
Aluminium Conductive
Acrylic
0.4Ω 50㎛ 55㎛
HKA-3830
  • Pet+Aluminium
  • Conductive Acrylic
  • Pet Release(Liner)
PET+Aluminium Conductive
Acrylic
0.3Ω 38㎛ 43㎛

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* 사용자의 요구에 따라 내부 사양 변경 가능함